机译:硅上III型氮化物光子晶体腔中短波长(约300 nm)的Q因子限制
机译:PECVD利用膜点载荷挠度表征富硅氮化物和低应力氮化物膜的机械特性
机译:光伏硅中皮秒级皮秒激光织构化:辐射波长1064 nm,532 nm和355 nm之间的比较
机译:PECVD氮化硅光子组件在532和900 nm波长处的表征
机译:增强对PECVD氮化硅特性的了解和控制及其在多晶硅太阳能电池中的应用
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:pECVD氮化硅光子器件在532和900 nm波长下的表征